-
2018
e-mail: info@tdisie.nsc.ru

"CLWS-300"
-
НАЗНАЧЕНИЕ
cинтез прецизионных хромовых шаблонов или мастер-оригиналов элементов плоской двухмерной (2D) оптики
запись дифракционных структур на осесимметричных трехмерных (3D) оптических поверхностях

ПРИНЦИП ДЕЙСТВИЯ
Основан на формировании изображений сфокусированным лучом лазера в режиме кругового растрового сканирования за счет взаимодействия его с материалом в точно заданных участках рабочего поля установки. Высокая точность синтеза топологии элементов достигается за счет использования прецизионных систем управления (перемещениями и мощностью излучения) и режима записи т.н. "скрытых" изображений.
ОТЛИЧИТЕЛЬНЫЕ ОСОБЕННОСТИ
• большое рабочее поле
• высокое разрешение
• высокая точность формирования топологии элементов
• простота и дешевизна технологии
• возможность записи на двухмерных (2D) и трехмерных (3D) поверхностях
• наличие самонастраивающейся системы автофокусировки для поиска и захвата поверхности записи и удержания • микрообъектива в положении наилучшей фокусировки.

ОБЛАСТИ ПРИМЕНЕНИЯ:
• Синтез элементов дифракционной оптики диаметром до 280 мм
• Синтез высокоточных углоизмерительных структур (достигнут фактор нестабильности не более 0.144 мкм, что позволяет синтезировать структуры диаметром 100 мм с погрешностью не более 0.6 угловой секунды, а структуры диаметром 280 мм - не более 0.2 угловой секунды)
• Синтез злементов макромеханики (погрешность формирования на порядок ниже, чем с помощью X-Y генераторов изображений)
КОММЕРЧЕСКИЕ ОБРАЗЦЫ СДАНЫ В ЭКСПЛУАТАЦИЮ:
• Германия: Институт технической оптики Штутгарского университета, Берлинский институт оптики
• Италия: Исследовательский центр ФИАТ
• Россия: Уральский оптико-механический завод г.Екатеринбург, ОАО "Геофизика-Космос" г.Москва
• Китай: Институт физики аэрокосмической корпорации, г.Ланчжоу
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
Пространственное разрешение до 1000 лин./мм
Разрешение по радиальной координате не хуже 10 нм
Разрешение по угловой координате не хуже 0.25 угл. с
Диапазон перемещения по вертикальной координате до 25 мм
Погрешность автофокусировки ± 0.05 мкм
Светочувствительный слой пленки хрома, фоторезист, халькогениды, LDW стекла
Материал подложки стекло, кварц